光刻机光源的难点是什么（国产光刻机已经解决光源问题了吗）

难点主要包括以下几个方面：首先，euv光源的稳定性和功率输出是一个重要的挑战，因为euv光源需要产生高能量的极紫外光。

其次，euv光刻机的光学系统需要具备高反射率和低吸收率，以保证光学元件的传输效率和光刻图案的准确性。

此外，euv光刻机的掩模技术也是一个难点，因为euv光的波长很短，掩模的制备和使用需要更高的精度和稳定性。

最后，euv光刻机的材料和工艺也需要不断创新和改进，以满足新一代芯片制造的需求。