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制取硅单质的离子方程式(用硅酸制二氧化硅的方程式)

制取硅单质的离子方程式(用硅酸制二氧化硅的方程式)

更新时间:2025-06-11 17:54:37

制取硅单质的离子方程式

硅单质是一种非金属元素,可以通过化学反应制取。制备硅单质的方法有很多种,其中比较常见的是通过还原硅酸盐或氯化硅的方法。离子方程式可以表示为:
硅酸盐还原反应:
SiO2 + 2C → Si + 2CO
氯化硅还原反应:
SiCl4 + 2Mg → Si + 2MgCl2
这些反应都需要高温和还原剂的存在,才能让硅单质得以制备。硅单质具有很好的导电、光学和半导体性质,因此在电子、光电子、太阳能等领域有着广泛的应用。

在工业上这样制取SI SiO2+C===Si+CO2(粗硅) Si+2Cl2===SiCl4 SiCl4+2H2===Si+4HCl(精)

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