PVD制备薄膜的三个基本过程是：
1. 制备源材料和制造薄膜的加热装置
2. 利用真空蒸发、离子束辅助蒸发、磁控溅射等技术将源材料蒸发到基底表面上
3. 控制过程参数，如温度、气压、蒸发速率等，控制薄膜的组成和厚度，最终形成所需的薄膜。
PVD（物理气相沉积）制备薄膜的三个基本过程包括
1. 蒸发：将固体材料加热至高温，使其转变为气态，然后通过凝结在衬底上形成薄膜
2. 溅射：通过离子轰击或高能粒子轰击固体材料，使其释放出原子或分子，然后在衬底上形成薄膜
3. 气相淀积：在真空环境中，将气体反应物引入沉积室，在表面上发生化学反应，生成所需的薄膜。这些过程可以单独应用，也可以组合使用，根据不同的需求和材料选择合适的PVD方法。
