光机所的“OPC”技术能够优化照明模式、晶圆的图形和工艺精度,实现光刻修正效率的大幅提升,从而在硬件不变的情况下,提升高端光刻机的分辨率。
OPC技术或将延续摩尔定律,让已顶到天花板的传统芯片精度,再次得到工艺上的提升。有利于促进opc技术发展与创新。
光机所的“OPC”技术能够优化照明模式、晶圆的图形和工艺精度,实现光刻修正效率的大幅提升,从而在硬件不变的情况下,提升高端光刻机的分辨率。
OPC技术或将延续摩尔定律,让已顶到天花板的传统芯片精度,再次得到工艺上的提升。有利于促进opc技术发展与创新。