rpd镀膜技术原理（pvd真空镀膜设备）

目前常用的PVD有三种：真空蒸镀、溅射镀膜、和离子镀。它们的工作原理如下：

1.真镀空膜是在1.33x10^-3至1.33x10^-4Pa的压力下，用电子束等热源加热材料使之蒸发，蒸发的原子或分子直接在工件表面形成沉积层。

2.溅射镀膜：是不采用蒸发技术的物理气相沉积方法。施镀时，将工作室抽成真空，冲入氩气做为工作气体，并保持其压力为0.13至1.33Pa。

3.离子镀：是在真空条件下，利用气体放电使气体或蒸发物质离子化，在气体离子或蒸发物质离子轰击作用下，吧蒸发物质或其他反应物蒸镀在工件上。