要制造芯片仅有一台光刻机可不够，它的工作环境非常挑剔。首先光刻需要的房间全部为纯净的黄光，因为短波长的光会造成光刻胶变性，无法实现功能。因此黄光对于光刻，就像暗房对于胶片一样。
此外，光刻所需的无尘环境要求每立方米的空气中不能有超过10个颗粒，并且颗粒大小小于0.5微米，每小时要净化30万立方米的空气。
厂房对地基要求也很严格，不能有任何微小的振动，因而某种意义上讲厂房需要类似“悬浮”。
光刻需要的电能也达到非常恐怖的量级，一台EUV工作24小时，耗电量达到3万度。
曾经有一位美国工程师是这样评价光刻机的，他说：“光是光刻机上的一个小零件，工程师就需要调整高达十年之久，就连尺寸的调整就要高达百万次以上。
