光刻机的精度受到多个因素的影响，包括分辨率、位置精度、曝光精度等。精度排名可能随时间和技术演进而变化，而且不同应用领域需求不同。
在半导体行业，一些主要光刻机制造商包括ASML、Nikon、Canon、Ultratech（现属Veeco公司）、Süss MicroTec等。
它们的设备通常在不同精度参数上有竞争力，具体的排名需要根据最新的市场报告和性能评估数据来确定。
排名前荷兰、日本、中国。
各国光刻机精度排名为荷兰、日本、中国。排名第一的荷兰阿斯麦尔公司的euv光刻机，也是目前唯一高端光刻机，该光刻机采用13.5纳米极紫外光光源制造，目前最大光刻精度为3纳米。其次也是荷兰阿斯麦尔公司的duv光刻机。再次是日本尼康和加盟以及中国上海微电子的duv光刻机。
