中国首台光刻机是中科院设计制造的。
我国最早在1977年就开始研究国产光刻机设备，并且当时还制造出了我国最早的光刻机-GK-3型半自动光刻机诞生，这是一台接触式光刻机。1978年再次改进研发了GK-4型号的光刻机设备，直接将加工圆片直径从50毫米提高到75毫米，在1981年，中国科学院半导体所开始研制JK-1型半自动接近式光刻机，并在1981年研制成功两台样机，但由于我国没有顶层的芯片能产业链设计，即便当时中国的集成电路在科研上可以达到世界顶尖水准，但最终这些世界顶尖水准的光刻机设备，因为限制而成为了废铁，后续也没有传来关于国产光刻机更多的消息。
国产光刻机是由中国企业制造的。目前，中国有多家公司生产和销售国产光刻机，包括微电子集团、中微半导体、大华股份等。
