光刻机原理详细介绍（光刻机中国方案简单原理）

光刻机是一种将光线通过掩模板照射在光敏材料上的设备，用于制造微电子器件。其原理是利用紫外光通过掩模板形成的图案，将光敏材料上的化学反应进行控制，从而形成所需的微细结构。光刻机的核心部件是光源、掩模板、光学系统和光敏材料。

光源产生紫外光，光学系统将光线聚焦到掩模板上，掩模板上的图案通过透过或反射的方式传递到光敏材料上，形成所需的微细结构。