离子蒸发沉积(可中频感应加热或电阻加热)如金属铍
磁控溅射待沉积靶材如钽铌等2.沉积方式连续缠绕走带式,即可连续生产。
3.带宽及及长度要求
可生产带宽200-250mm,可生产带长5-10m。
4.炉体真空度 5x10-5托
漏气率<1托╱3分钟
5.加热温度15000C(坩埚部分)
离子蒸发沉积(可中频感应加热或电阻加热)如金属铍
磁控溅射待沉积靶材如钽铌等2.沉积方式连续缠绕走带式,即可连续生产。
3.带宽及及长度要求
可生产带宽200-250mm,可生产带长5-10m。
4.炉体真空度 5x10-5托
漏气率<1托╱3分钟
5.加热温度15000C(坩埚部分)