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真空镀膜技术参数实例(真空镀膜去哪里学工艺)

真空镀膜技术参数实例(真空镀膜去哪里学工艺)

更新时间:2025-05-29 19:06:52

真空镀膜技术参数实例

离子蒸发沉积(可中频感应加热或电阻加热)如金属铍

磁控溅射待沉积靶材如钽铌等2.沉积方式连续缠绕走带式,即可连续生产。

3.带宽及及长度要求

可生产带宽200-250mm,可生产带长5-10m。

4.炉体真空度 5x10-5托

漏气率<1托╱3分钟

5.加热温度15000C(坩埚部分)

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