EUV（Extreme Ultraviolet）光刻机是一种使用极紫外光进行微影技术制造芯片的先进设备。EUV光刻机是目前半导体制造领域中最为先进和昂贵的设备之一。
EUV光刻机最难造的部位之一是EUV光源，它是EUV光刻机最核心的部分。EUV光源需要产生极紫外线，这是一种波长在10到14纳米范围内的电磁辐射。由于这种波长比传统光刻机使用的光源要短得多，因此需要使用非常精密的光学元件来产生和聚焦这种极紫外线。同时，EUV光源还需要在高温、高真空等极端环境下运行，对光学元件的材料和加工工艺要求非常高。
另一个难点是EUV光刻机的光刻镜头系统，这是将EUV光线聚焦到芯片上的关键部件。由于极紫外线的波长非常短，因此光刻镜头需要具有极高的精度和稳定性，以确保能够准确地将EUV光线聚焦到芯片上。这需要采用非常精密的光学元件和复杂的光学系统来实现。
综上所述，EUV光刻机最难造的部位之一是EUV光源和光刻镜头系统，需要采用非常精密的光学元件和制造工艺来实现。
