duv与euv光刻机哪个更先进

duv光刻机一般是制程在14nm及以上制程，刻的精度较低，Euv光刻机是指极紫外光刻机，制程比较先进，是美国及西方盟国向我国禁售光刻机，其配件大约有十万个，且技术大多是美国的，他可以生产7纳米及以上芯片，华为因断供此芯片而导致高端手机无法生产！