光学duv，主要是指波长小于i-line365nm的紫外光，一般工业上有193arf和248nmkrf的的激光。用的都是化学增幅型的光刻胶。
光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线，EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外光刻技术，EUV使用的是深紫外光刻技术。EUV为先进工艺芯片光刻的发展方向。
duv光刻机和euv光刻机区别
1.基本上duv只能做到25nm，而euv能够做到10nm以下晶圆的生产。
2. duv主要使用的是光的折射原理，而euv使用的光的反射原理，内部必须是真空操作。
