主要成分:SiO2(二氧化硅) 1.可耐热1200度左右 2.适用于K2S207等酸性物质熔融样品。 3.一般不能用于以Na0H、Na202、Na2CO3等碱性物质作熔剂熔融,以免腐蚀瓷坩埚。瓷坩埚不能和氢氟酸接触。 4.瓷坩埚一般可用稀HCl煮沸清洗涤
主要成分:SiO2(二氧化硅) 1.可耐热1200度左右 2.适用于K2S207等酸性物质熔融样品。 3.一般不能用于以Na0H、Na202、Na2CO3等碱性物质作熔剂熔融,以免腐蚀瓷坩埚。瓷坩埚不能和氢氟酸接触。 4.瓷坩埚一般可用稀HCl煮沸清洗涤